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Machine de revêtement de coucheuse de pulvérisation de plasma de cible rotatoire 3 avec le réchauffeur 500c

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Machine de revêtement de coucheuse de pulvérisation de plasma de cible rotatoire 3 avec le réchauffeur 500c

Machine de revêtement de coucheuse de pulvérisation de plasma de cible rotatoire 3 avec le réchauffeur 500c

  • :

    VTC-16-3HD-LD
  • MOQ :

    1
  • :

    20 days
  • Compliance:

    CE Certified
  • Warranty:

    1 year
  • Messagerie :

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Machine de revêtement de coucheuse de pulvérisation de plasma de cible rotatoire 3 avec le réchauffeur 500c



vtc-16-3hd-ld est une machine de couchage par pulvérisation plasma à cible rotative compacte à trois cibles certifiée CE, avec un contrôleur numérique à écran tactile et un réchauffeur de substrat capable de chauffer jusqu'à 500 ° C. il peut revêtir 1 à 3 types de matériaux métalliques à échantillonner avec un diamètre allant jusqu'à 50 mm. trois cibles de pulvérisation: or, argent et cuivre sont incluses pour une utilisation immédiate. ( Mis à jour le 21 août 2015: ajouter un bouclier / sans pompe )

Caractéristiques:

la puissance d'entrée

  • monophasé 220 Vac, 50 / 60hz
  • 700 W (pompe à vide incluse)
  • pour utiliser 110 VAC, nous allons inclure un transformateur pour vous. veuillez sélectionner la tension dans les options du produit

puissance de sortie

  • 1600 vdc
  • 40 ma max

chambre à vide

  • chambre à vide: 150 mm id x 165 mm od x 150 mm h, en quartz de haute pureté
  • bride d'étanchéité en acier inoxydable avec joint torique plat

étage de prélèvement avec chauffage

  • taille de la scène: 50 mm dia.
  • plage de pulvérisation: 25 - 40 mm réglable
  • Platine rotative à trois positions de pulvérisation (contrôlée par l'écran tactile)
  • chauffe-substrat est intégré avec une température de chauffage maximale de 500 ° C
  • Le régulateur de température pid avec une précision de +/- 1 ° C est intégré à l'écran tactile

Panneau de contrôle

  • Écran tactile couleur 6 ”avec intégration PLC pour une utilisation facile
  • la jauge à vide, le compteur de courant de pulvérisation et le contrôle de la température du substrat sont intégrés au panneau à écran tactile
  • boutons de réglage sur le panneau avant pour l'admission de gaz et le contrôle du courant de pulvérisation
  • la position de pulvérisation, la minuterie de pulvérisation et l'enregistrement des processus sont accessibles à partir de l'écran tactile

bouclier

  • acier inoxydable cage de bouclier est inclus pour une protection supplémentaire

cibles de pulvérisation

  • exigences de taille de cible: 47 mm dia. x 2,5 mm max
  • Trois cibles sont incluses dans le package standard pour une utilisation immédiate:
    • au cible , 47 mm dia. x 0,12 mm
    • cible ag , 47 mm dia. x 0,5 mm
    • cible de cu , 47 mm dia. x 2,5 mm
  • diverses cibles sont disponibles sur commande à tmax

pompe à vide
(optionnel)




  • Prise de vide kf25 intégrée pour la connexion à une pompe à vide.
  • Une pompe à vide avec connecteur kf25 est requise mais non incluse. l'utilisateur peut choisir
    • une pompe à vide mécanique à double étage pour le vide jusqu'à 1.0e-2 torr.
    • ou un pompe turbo pour le vide jusqu'à 1.0e-5 torr
  • la pompe à vide peut être branchée sur la prise de courant située à gauche de la machine à enduire pour un contrôle automatique

dimensions

  • 440 mm l × 330 mm l × 455 mm h

poids net

  • 50 kg

conformité

  • approbation ce
  • La certification rencontrée (ul 1450) est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires. Veuillez contacter notre représentant des ventes pour obtenir un devis.

garantie

  • un an limité avec support à vie

Notes d'application

  • pour une adhérence optimale entre le film et le substrat, veuillez nettoyer la surface du substrat avant l'application du revêtement:
    • nettoyage par ultrasons avec les bains séquentiels suivants - (1) acétone, (2) alcool isopropylique - pour éliminer les huiles et les graisses. Séchez le substrat avec n2, puis faites cuire à chaud au vide pour éliminer l'humidité absorbée
    • le nettoyage au plasma peut être nécessaire pour rendre la surface rugueuse, activer les liaisons chimiques de surface ou pour éliminer la contamination
    • une couche tampon mince (~ 5 nm), telle que cr, ti, mo, ta, pourrait être appliquée pour améliorer l'adhérence des métaux et des alliages
  • un régulateur de pression à deux étages (non inclus) doit être installé sur la bouteille de gaz afin de limiter la pression de sortie du gaz à moins de 0,02 mpa pour une utilisation en toute sécurité. veuillez utiliser & gt; 5n pureté ar gas pour la pulvérisation plasma
  • la coucheuse à pulvérisation peut être placée dans une boîte à gants ar et n2 pour le revêtement
  • haute tension! les têtes de pulvérisation se connectent à haute tension. pour des raisons de sécurité, l'opérateur doit éteindre l'équipement avant le chargement de l'échantillon et le changement de cible
  • Ce modèle ne convient pas au revêtement de matériaux métalliques légers tels que al, mg, zn, ni, etc. en raison de la faible énergie. veuillez considérer notre coucheuse à pulvérisation magnétron ou la coucheuse à évaporation thermique. cliquez sur les images ci-dessous pour plus de détails




Plasma Sputtering Coater









paquet:

1 emballage standard exporté: protection anticollision interne, emballage externe de la boîte en bois.

2 expédition par exprès, par air, par mer selon les exigences des clients pour trouver le moyen le plus approprié.

3 responsable des dommages pendant le processus d'expédition, changera la partie endommagée pour vous gratuitement.

Heure de livraison : 15-20 jours après confirmation de la commande, détail date de livraison doit être décidé en fonction

saison de production et quantité d'ordre.