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structure compacte
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la puissance d'entrée
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monophasé 220 vac 50/60 hz
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2000 W (y compris pompe à vide et refroidisseur d'eau)
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source d'alimentation
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trois sources d'alimentation de pulvérisation sont intégrées dans un boîtier de commande (cliquez sur l'image ci-dessous pour voir les spécifications détaillées)
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source de courant continu: puissance de 500 W pour le revêtement de matériaux métalliques (photo 1)
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source rf: 300 w de puissance, fréquence de 13,56 mhz pour le revêtement de matériaux non conducteurs (photo 2)
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tête de pulvérisation magnétron
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trois têtes de pulvérisation magnétron de 2 " avec gilet et volets de refroidissement à l'eau inclus
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Un modèle de tête de pulvérisation est également disponible.
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exigence de taille de la cible: 2 "diamètre
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plage d'épaisseur: 0,1 - 5 mm pour les cibles métalliques et non conductrices (y compris la plaque de support)
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un cible en acier inoxydable et un grade de recherche cible al2o3 sont inclus pour les tests de démonstration
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Des cibles de pulvérisation de 2 "(ou une plaque de support) en option sont disponibles sur demande moyennant des frais supplémentaires.
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recette de pulvérisation recommandée et conseils utiles
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coucheuse personnalisée: deux dc - une rf; deux rf - un courant continu; trois dc; trois rf (veuillez choisir parmi les options du produit)
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en option: un câble haute fréquence de 148 cm peut être commandé moyennant un supplément
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chambre à vide
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chambre à vide: 300 mm dia. x 300 mm de hauteur, en acier inoxydable
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fenêtre de visualisation: deux pièces de 100 mm de dia. verre. un fixe; un détachable pour le nettoyage et le remplacement
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couvercle à charnière avec pôle de puissance pneumatique permettant de changer facilement de cible
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stade de l'échantillon
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le porte-échantillon est une platine rotative et chauffable en céramique avec couvercle en cuivre
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taille du porte-échantillon: 140 mm dia. pour. 4 "plaquette max
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vitesse de rotation: 1 - 20 tr / min réglable pour un revêtement uniforme
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la température du support est réglable de rt à 500 ° c max (2 h max) avec une précision de +/- 1,0 ° c via un régulateur de température numérique
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contrôle du débit de gaz
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deux régulateurs de débit massique de précision (mfc) sont installés pour permettre l’entrée de deux types de gaz
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débit: 0 - 200 ml / min & amp; 0 - 100 ml / min réglable sur le panneau de commande à écran tactile
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la soupape d'admission d'air est installée pour la libération du vide
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station de pompage à vide
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une station de pompage mobile est incluse. la coucheuse à pulvérisation peut être placée au sommet de la station
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Une pompe turbo haute vitesse à une vitesse de 80 l / s est associée à une pompe mécanique à deux étages (220 l / min) pour un niveau de vide maximal et une vitesse de pompage plus rapide
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niveau de vide standard connecté à la chambre: & lt; 4.0e-5 torr. . (1.0e-6 torr avec cuisson à la chambre)
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facultatif à un coût supplémentaire
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si vous choisissez une pompe turbo à grande vitesse de 150 l / s, le vide peut atteindre 10 à 6 torr avec chambre (6 x 10 à 7 torr avec cuisson)
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Pour le vide ultra poussé jusqu’à 10 ^ -7 torr, une pompe de dégazage (100l / s h2 & amp; O2) est nécessaire en plus de la pompe turbo. veuillez consulter nos ingénieurs pour une personnalisation détaillée.
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Pompe turbo haute vitesse 150l / s
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pompe getter
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refroidisseur d'eau
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une température numérique contrôlée refroidisseur d'eau à recirculation est inclus.
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plage de réfrigération: 5 ~ 35 ° c
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débit: 16 l / min
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pression de la pompe: 14 psi
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optionnel
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quartz précis moniteur d'épaisseur de film est facultatif, ce qui peut être dans la chambre pour contrôler l’épaisseur du revêtement avec une précision de 0,10 Å
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précision film mince & amp; systèmes d'analyse de revêtements - eq-tfms-ld est disponible à un coût supplémentaire
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diverses cibles en oxyde et en métal de 2 ”sont disponibles sur demande moyennant des frais supplémentaires. des plaques de support en cuivre époxy et argent peuvent être commandées à tmax
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dimensions hors tout
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poids net de la coucheuse
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poids d'expédition & amp; dimensions
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total 3 palettes
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365 lb, 48 "x 40" x 45 "
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390 lb, 48 "x 40" x 49 "
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210 lb, 48 "x 40" x 30 "
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conformité
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approbation ce
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La certification satisfaite (ul 1450) est disponible sur demande moyennant des frais supplémentaires. Veuillez contacter notre représentant des ventes pour obtenir un devis.
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garantie
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garantie limitée d'un an avec support à vie
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Notes d'application
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un régulateur de pression à deux étages (non inclus) doit être installé sur la bouteille de gaz afin de limiter la pression de sortie du gaz à moins de 0,02 mpa pour une utilisation en toute sécurité
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pour éliminer l’oxygène de la chambre, tmax vous suggère d’utiliser 5% d’hydrogène + 95% d’azote pour nettoyer la chambre 2 à 3 fois, ce qui peut réduire le niveau d’oxygène à & lt; 10 ppm
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veuillez utiliser & gt; Gaz argon de pureté 5n pour la pulvérisation cathodique. bien que la pureté 5n contienne en général entre 10 et 100 ppm d’oxygène et d’eau selon le fournisseur. tmax vous suggère d'utiliser dispositif de purification de gaz purifier le gaz avant de le remplir
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pour de meilleures performances, les cibles non conductrices doivent être installées avec une plaque de support en cuivre. veuillez vous référer à la vidéo d'instructions ci-dessous pour la liaison cible
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lith fournit le substrat monocristallin de a à z
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lith les enduits de pulvérisation ont revêtu avec succès zno sur al 2 o 3 substrat à 500 ° c
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tester la flexibilité de l'électrode à couche mince / enrobée avec testeur de flexion de mandrin eq-mbt-12-ld .
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haute tension! les têtes de pulvérisation se connectent à haute tension. pour des raisons de sécurité, l'opérateur doit éteindre le générateur RF / DC avant le chargement de l'échantillon et les opérations de changement de cible
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ne pas utiliser d'eau du robinet dans le refroidisseur d'eau. doivent utiliser des liquides de refroidissement antirouille pour prévenir la rouille et la corrosion.
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Louis@lithmachine.com
+0086 15959378975
