machine de coucheuse par pulvérisation cathodique magnétron dc conçue pour recouvrir un film d'or conducteur

:
VTC-16-D
MOQ :
1
Compliance:
CE Certified
Warranty:
1 year
Delivery Time:
5 days
Messagerie :
Louis@lithmachine.com

machine de coucheuse par pulvérisation cathodique magnétron dc conçue pour recouvrir un film d'or conducteur

vtc-16-d est un ordinateur de bureau magnétron coucheuse par pulvérisation plasma avec porte-échantillon ajustable en hauteur de 2 ". Idéal pour le revêtement d'un film d'or conducteur pour un échantillon. Il s'agit d'un appareil de pulvérisation à pulvérisation plasma compact conçu pour les revêtements métalliques, tels que l'or, le platine et l'argent. one 2" gold (4n ) la cible est incluse.

Caractéristiques

fonctionnalité	spécialement conçu pour le revêtement d'un film d'or conducteur pour sem échantillon machine à enduire à pulvérisation plasma compacte conçue pour les revêtements métalliques, tels que l'or, le platine et l'argent un Cible 2 "or (4n) est inclus
tension d'entrée	220 vac 50 / 60hz, 200w & lt; 1000 W (puissance de la pompe à vide incluse) Une alimentation de 110vac est disponible en utilisant un Transformateur de 1000 W (15 fusibles) . le transformateur est vendu séparément
tension de sortie	500 vdc
courant de pulvérisation	Courant de pulvérisation réglable de 0 à 50 ma (max.) compteur de courant numérique (ma) Protection contre les surintensités
temps de pulvérisation	1 -120 secondes réglable
chambre de spécimen	tube en verre de quartz, 165 mm od. x 150 mm id x 150 mm hauteur
stade de spécimen	2 "de diamètre hauteur réglable de 30 à 80 mm de l'échantillon à la cible
tête de pulvérisation	Tête de pulvérisation magnétron 2 " un volet à commande manuelle pour la protection de la cible
pression de vide	compteur de pression numérique à vide (pa) connecteur de pompe à vide kf25 vide final 1 pa par la pompe mécanique. la pompe n'est pas incluse
pompe à vide (optionnel)	la pompe à palettes rotative à deux étages eq-fyp est recommandée. facultatif: vous pouvez utiliser un pompe turbo pour atteindre un vide de 1.0e-5 torr avec une pompe turbo (cliquez sur l'image en bas à droite)
entrée de gaz	un raccord de tube de type swagelok 1/4 est installé pour connecter la bouteille de gaz inerte une soupape de dosage est sur le panneau avant pour ajuster le gaz d'entrée
cible	un diamètre de 50mm x cible en or de 0,12 mm incluse Feuille d'or de pureté 4n: 50 mm (2 inch) dia. x 0,12 mm (inclus et pré-installé sur la coucheuse) les cibles optionnelles sont disponibles au cible (50 mm de diamètre x 0,12 mm, pureté 4n) cible de pt (50 mm de diamètre x 0,12 mm, pureté 4n) cible ag (50 mm de diamètre x 0,5 mm, pureté 4n) ce modèle est adapté pour le revêtement d'or, d'argent et de platine. il ne convient pas au revêtement de matériaux métalliques légers tels que al, mg, zn ou cible de carbone en raison de la faible énergie. veuillez considérer notre coucheuse à pulvérisation magnétron / cc à haute puissance ou thermoévaporation
dimension et poids du produit	460 mm (l) × 330 mm (l) × 520 mm (h) 20 kg
poids d'expédition & amp; dimension	80 lb 45 "x 45" x 40 "
conformité	certifié CE prêt à passer la certification ul / csa à un coût supplémentaire.
garantie	un an limité avec support à vie
Notes d'application	pour une adhérence optimale entre le film et le substrat, veuillez nettoyer la surface du substrat avant l'application du revêtement: nettoyage par ultrasons (cliquez sur l'image ci-dessous pour commander) avec les bains suivants: (1) acétone, (2) alcool isopropylique - pour enlever l'huile et la graisse. Séchez le substrat avec n2, puis faites cuire à chaud au vide pour éliminer l'humidité absorbée le nettoyage au plasma (cliquez sur l'image ci-dessous pour commander) peut être nécessaire pour rendre la surface rugueuse, activer les liaisons chimiques en surface ou pour éliminer la contamination une couche tampon mince (~ 5 nm), telle que cr, ti, mo, ta, pourrait être appliquée pour améliorer l'adhérence des métaux et des alliages un régulateur de pression à deux étages (non inclus) doit être installé sur la bouteille de gaz afin de limiter la pression de sortie du gaz à moins de 0,02 mpa pour une utilisation en toute sécurité. veuillez utiliser & gt; 5n pureté ar gas pour la pulvérisation plasma la coucheuse à pulvérisation peut être placée dans une boîte à gants ar et n2 pour le revêtement veuillez appliquer plusieurs couches pour augmenter l'épaisseur de la couche, laissez la machine refroidir pendant quelques minutes, entre chaque utilisation, car elle ne dispose pas de refroidissement par eau haute tension! les têtes de pulvérisation se connectent à haute tension. pour des raisons de sécurité, l'opérateur doit éteindre l'équipement avant le chargement de l'échantillon et le changement de cible Ce modèle ne convient pas au revêtement de matériaux métalliques légers tels que al, mg, zn ou cible de carbone en raison de la faible énergie. veuillez considérer notre coucheuse à pulvérisation magnétron ou la coucheuse à évaporation thermique. (cliquez sur les images ci-dessous pour plus de détails)

DC Magnetron Sputtering

paquet:

1 emballage standard exporté: protection anticollision interne, emballage externe de la boîte en bois.

2 expédition par exprès, par air, par mer selon les exigences des clients pour trouver le moyen le plus approprié.

3 responsable des dommages pendant le processus d'expédition, changera la partie endommagée pour vous gratuitement.

Heure de livraison : 15-20 jours après confirmation de la commande, détail date de livraison doit être décidé en fonction

saison de production et quantité d'ordre.

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